La ‘start-up’ estadounidense Everlane ficha a la ex directora creativa de Cos y Gap

Salto de gigante para una start-up de comercio electrónico de moda. Everlane, con sede en San Francisco y especializada en básicos, incorpora a una ejecutiva procedente de los gigantes H&M y Gap. Rebekka Bay, creadora de Cos en H&M y ex directora creativa de Gap, ha sido nombrada responsable de diseño de Everlane.

El nombramiento de Bay se hará efectivo, según Business of Fashion, el próximo 4 de agosto. La nueva directiva de Everlane estará basada en Nueva York, junto con todo su equipo. Bay trabajó en H&M entre 2006 y 2011, tiempo durante el cual conceptualizó y lanzó la cadena Cos. Tras su salida del grupo sueco, la ejecutiva fichó por Bruuns Bazaar, para incorporarse a Gap en 2012 como responsable global de diseño. Bay abandonó Gap en enero de 2015.

Everlane nació en 2011 de la mano de Michael Preysman, procedente de banca de inversión. La marca ofrece básicos a precios asequibles con un enfoque hacia el consumo sostenible. En 2013, Everlane registró una cifra de negocio de doce millones de dólares, que ha duplicado en 2014.  La empresa, que inició su desarrollo con campañas de crowdfunding, ha captado más de nueve millones de dólares de inversores.